関東支部＞行事一覧
第13回イブニングセミナー
化学工学会関東支部では、新聞・雑誌・ニュース等で最近注目されているホットな技術をその分野に詳しい技術者あるいは先生に平易に解説していただき、理解を深めるセミナーを開催しております。 本セミナーの特徴は、気軽に参加できるよう「夕方開催」としています。　また、話題を限定するために「講演者お一人による話題提供」と、更に理解を深めていただくために講演後「講演者との交流会」の時間を設けております。 今回は、出光興産(株)　吉留　俊英氏を講師にお招きし、半導体フォトレジスト材料分野等のホットな話題（研究動向や今後の展望）をご提供いただきます。

日　時		2008年　1月　30日（水）　16：00〜18：00
会　場		東京理科大学　森戸記念館　第2フォーラム（1階） 　（東京都新宿区神楽坂4-2-2　　TEL：03-3260-4271）　 　【アクセス】地下鉄　飯田橋駅より徒歩8分　（毘沙門天　向かい路地突き当たり）
協　賛
定　員		50　名　（先着順）
参加費		正会員・法人会員の社員　4,000円、　　学生会員2,000円、　　会員外6,000円 　　＊消費税、交流会費込み
お問合わせ お申し込み		（社）化学工学会関東支部　事務局 　TEL：03-3943-3527　　　FAX：03-3943-3530　　　E-mail：info＠scej-kt.org 　○参加申込みフォーム
プログラム		1.開会の挨拶（16：00〜16：05） 2.【講演】半導体製造用フォトレジスト材料を中心とした出光の取り組み（16：05〜17：05） 　講師：　吉留　俊英　氏　（出光興産株式会社） 　＞半導体製造時の微細加工技術は急速に進んでおり、現在はパターン幅45mmまでに達している。 　　 今後更に、高性能なフォトレジスト材料の開発により微細化技術が進展すると考える。 　　 本分野の開発動向や材料の一つであるアダマンタン誘導体の取り組み及び、フォトレジスト材料分野以外の 　　 取り組みを紹介する。 　　 また原料であるアダマンタンを世界初の固体酸触媒の開発により実用化した例を紹介する。 3.講演者との交流会（17：05〜18：00）