Continuing Education シリーズは、企業で働くケミカルエンジニアリングの皆さんのリフレッシュを目的として、
  毎年、時代の流れを反映した分野を取り上げ、大学、企業の技術者を講師として招き、技術を学ぶことができます。

  本年度は、日本のものづくりの基盤技術である、分散・塗布・乾燥プロセスに関する講習会を開催します。東京大学の
  山口由岐夫先生をコーディネーターに、第一線でご活躍中の講師陣による講演会です。これまでの塗布技術は大面積に
  均一に高速で薄くコーティングすることを目標にしてきました。しかし現在では、コーティングテクノロジーは環境・
  エネルギー分野からトイレタリー、化粧品、医薬品など広範な分野で使われ、要求レベルも高度化しています。その
  結果、コーティングテクノロジーは低コスト化はもちろん、高機能化や高性能化に至るハイテク技術に変貌しつつあり
  ます。これまで大学で学ぶ機会も少なく、企業においても実践重視のなかで、分散・塗布・乾燥プロセスにおける構造
  制御について一日考えてみませんか。ふるってご参加ください。製造プロセスメーカなど関連企業の展示もあり、最新
  装置を見ることもできます。
日  時  2013年 11月1日(金) 講演,展示09:3017:30,交流会17:4019:00
会  場

東京大学本郷キャンパス 山上会館   
113-8654 東京都文京区本郷 7-3-1 TEL 03-5841-2320

 協   賛  化学工学会材料界面部会         化学工学会塗布技術会
 日本化学会コロイドおよび界面部会    (一社)日本写真学会
定  員  100 (申込先着順 定員になり次第締め切らせていただきます)
参 加 費 正会員 \16,000円、法人会員社員 \21,000円、会員外 \31,000円、学生会員 \3,000円、サロンメンバー8,000円
お問合わせ
お申し込み
(公益社団法人)化学工学会関東支部 事務局
 TEL:03-3943-3527   FAX:03-3943-3530   E-mail:info@scej-kt.org

 ○参加申込みフォーム
プログラム
時 間 タ  イ  ト  ル 講  師
09:30-09:35 開会  東京工業大学 吉川 史郎氏
薄膜の製造プロセスにおける構造形成の基礎
09:35-10:15 「分散・塗布・乾燥における非平衡論的な構造形成」 東京大学 山口 由岐夫
10:15-10:55 「気相法での多様な膜構造形成と多様な相と場でのナノ構造形成」 早稲田大学 野田 優 氏
分散プロセスによる構造形成
10:55-11:35 「分散剤の役割とナノ分散の特徴」 東京大学 瓦家 正英 氏
11:35-12:05 展示企業ショートプレゼンテーション>
13:00-13:40 「分散・混練プロセスにおける粒子凝集状態の制御」 東京農工大学 神谷 秀博
塗布プロセスによる構造形成
13:40-14:20 「塗布乾燥プロセスによる機能性無機・有機薄膜の構造および物性制御」 東京大学 佳子
14:20-15:00 「塗布・乾燥におけるナノ粒子の動的構造形成シミュレーション」  東京大学 小池
15:00-15:30 休憩 & 企業展示
15:30-16:10 「塗塗布プロセスにおける欠陥発生メカニズム」 富士フィルム 宮本 公明
乾燥プロセスによる構造形成
16:10-16:50 「乾燥における不均一構造の形成と乾燥欠陥」 九州工業大学 山村 方人
16:50-17:30 「コロイド粒子分散液の乾燥過程での膜形成と膜物性」
東京農工大学 稲澤 晋 氏
17:40-19:00 交流会 
  <企業展示 09:30-17:30>

関東支部行事一覧

      第44回 Continuing Educationシリーズ講習会

      「分離・塗布・乾燥プロセスにおける構造制御