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「ここまできた膜分離プロセス〜基礎から応用」

  「ここまできた膜分離プロセス〜基礎から応用」では,低コスト分離技術の一つである膜分離プロセスについて
  基礎技術から,実用化事例,今後の展望などについて紹介します.初日は「高分子膜分離プロセスとして
  水処理やガス分離を中心とした高分子膜の基礎技術の講義を行います.2日目には、「無機膜分離プロセス」
  と題し無機分離膜の概論と応用化事例を紹介します.どちらか1日のみの参加も受け付けますので奮ってご参
  加ください.

日  時  2014年 01月21(火)〜22(水) 09:30 〜 17:15
会  場  東京理科大学 森戸記念館
  東京都新宿区神楽坂4-2-2  TEL:03-3260-4271) 
 【アクセス】地下鉄 飯田橋駅より徒歩8分 (毘沙門天 向かい路地突き当たり) 

定  員  60 名 (定員になり次第締切)
参 加 費  正会員(含協賛団体)31,000円,法人会員(含協賛団体)の社員36,000円,学生会員10,000円,
 会員外46,000円(参加費にはテキスト代,消費税が含まれます。)

 1日のみ参加の場合:正会員(含協賛団体)18,000円,法人会員(含協賛団体)の社員23,000円,
 学生会員8,000円,会員外33,000円(参加費にはテキスト代,消費税が含まれます)
プログラム  
時 間           講         演 講 師
  01月21(火) 10:00〜17:00  「高分子膜分離プロセス」
10:00-11:00 高分子膜概要・膜ファウリング 神戸大学 松山 秀人 氏
11:00-11:45 ガスバリア膜 明治大学 永井 一清 氏
11:45-13:00 昼休憩
13:00-13:45 高分子ガス分離膜の現在、未来   首都大学東京 川上 浩良 氏
13:45-14:30 高分子膜中の分子透過機構:溶解拡散機構 神奈川科学技術アカデミー 黒木 秀記 氏
14:30-15:15 膜分離プロセス解析      東京工業大学 伊東 章 氏
15:30-16:00 多孔体膜の分析法 日本ベル() 千賀 義一 氏
16:00-16:30 未来の人工膜:分子認識ゲート膜を例として 東京工業大学 山口 猛央 氏
16:30-17:00

総括質疑

17:30-19:00

交流会

  01月22(水) 09:30〜17:15 「無機膜分離プロセス」
09:30-10:15 CVD法を用いた気体分離シリカ膜の作製とその性能 工学院大学 赤松 憲樹 氏
10:15-11:00 ゼオライト膜 早稲田大学 松方 正彦 氏
11:00-11:45 炭素膜   ()産業技術総合研究所 吉宗 美紀 氏
11:45-13:00 昼休憩
13:00-13:45 金属膜の水素透過特性 ()産業技術総合研究所 原 重樹 氏
13:45-14:30 膜反応器による気相反応の促進と選択性向上 宇都宮大学 伊藤 直次 氏
14:30-15:15 無機分離膜の透過機構 芝浦工業大学 野村 幹弘 氏
15:30-16:15 シミュレーション 工学院大学 高羽 洋充 氏
16:15-16:45 ゼオライト分離膜の応用 高含水溶媒脱水用のチャバサイト型ゼオライト膜の実用化 三菱化学() 佐藤 公則 氏
16:45-17:15

総括質疑

 
お問い合せ
お申し込み
   (公・社)化学工学会関東支部 事務局
    TEL:03-3943-3527   FAX:03-3943-3530   E-mail:info@scej-kt.org

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          例) 2日参加 単独参加(    日)


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