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最近の化学工学講習会６８
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「塗布・乾燥技術の基礎とものづくり
ー新素材の利用と次世代デバイスへの展開―」
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化学工学会関東支部では、最近大きく前進した分野の成果や考え方を集成して解説するとともに、できるだけ次の数年間への問題提起を行うことを目的として｢最近の化学工学｣講習会シリーズを企画しています。今年度は、塗布膜の形成と乾燥操作からなる塗布技術について、過去１０年間におけるこの分野の進展を整理すると共に、今後の発展の方向性を議論します。関連する産学官の技術者、研究者を講師に迎え、塗布技術の基本的な考え方から、プロセス理解のポイント、塗布乾燥欠陥や微細構造の制御法まで、最先端のプロセスサイエンスに基づいて解説します。また塗布乾燥装置について、実務に役立つ設計・運転技術と、最近の開発動向を紹介します。さらにプリンタブルエレクトロニクスや新材料への展開・数値解析技術の進展についてそれぞれ最新動向をまとめることで、塗布技術の基礎から応用までを包括的に理解して頂ける場を提供いたします。なお、テキストとして講習会講師執筆による三恵社刊「最近の化学工学 68塗布・乾燥技術の基礎と応用」を使用します。皆様奮ってご参加下さい。
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日時
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2020年01月20日（月）・21日（火）の二日間 初日講演了後に交流会を開催
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会場
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早稲田大学55号館第2会議室 |
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化学工学会粒子・流体プロセス部会、高分子学会、プラスチック成形加工学会、
日本化学会コロイド部会、日本機械学会、電気化学会、日本塗装技術協会、日本印刷学会、
色材協会、応用物理学会、セラミックス協会、 日本粉体工業技術協会、粉体工学会 |
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定員
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70名 （定員になり次第募集を締め切りとさせて頂きますので、その旨ご了承ください）
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参
加
費
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正会員（協賛団体含む）31,000円、法人会員36,000円、学生会員10,000円、
会員外46,000円
*1日のみ参加の場合：正会員（含協賛団体）18,000円，法人会員（含協賛団体）の社員23,000円，学生会員8,000円，会員外33,000円，サロンメンバー15,000円
※なお、それぞれの参加費には消費税・テキスト代が含まれます。
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申
込
方
法
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＊参加申込みの方はこちらから → 【申込フォーム】
定員になりましたので締切ました。
・Fax､E-mailによる申込み
下記関東支部事務局宛，「最近の化学工学講習会68」と明記し､会社・学校名､参加者指名､所属部署､郵便番号､住所､電話､Fax番号､E-mail アドレス､会員資格､参加費請求書送付の必要の有無をご記入の上お送りください。 |
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問
合
せ
先
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申し込み先：公益社団法人 化学工学会関東支部事務局
〒112-0006東京都文京区小日向4-6-19共立会館内
TEL:03-3943-3527、FAX:
03-3943-3530､ E-mail: info@scej-kt.org
支払方法：受付後、参加証と共にお送りする振替用紙にて事前にお振り込みください。
当日、会場での現金払いも可能です。当日になってのキャンセルの場合は参加費を
請求させていただきます。
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ﾛ
ｸﾞ
ﾗ
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時 間
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講 演
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講 師
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09:25-09:30
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第一企画委員長挨拶
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東京大学
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大友順一郎
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＜基礎編）>
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09:30-10:10
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種々の塗布方式の歴史と変遷
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元富士フイルム
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宮本 公明氏
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10:10-10:50
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塗布流動の基礎
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ダウ・東レ
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津田 武明氏
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10:50-11:30
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レオロジーの基礎
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神戸大学
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菰田 悦之氏
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11:30-12:10
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スラリ−分散・凝集制御
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法政大学
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森 隆昌氏
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12:10-13:00
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昼休憩
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13:00-13:40
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流れと表面張力
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埼玉大学
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本間 俊司氏
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13:40-14:20
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スロットダイ塗布
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ヒラノテクシード
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笹野 祐史氏
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14:20-15:00
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グラビア塗布の概要およびプロセス管理
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富士機械工業
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三浦 秀宣氏
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15:00-15:20
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休憩
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15:20-16:00
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電子線の産業利用
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岩崎電気
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武井 太郎氏
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16:00-16:40
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赤外線を用いた塗布膜乾燥プロセスの特徴と効果
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日本ガイシ
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近藤 良夫氏
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16:40-17:20
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最近の学術動向と計測評価手法の進展
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九州工業大学
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山村 方人氏
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17:20-18:00
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印刷型有機集積回路とＩｏＴセンサ応用
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山形大学
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時任 静士氏
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17:20-18:00
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総合討論
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18:15-19:30
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交流会
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二日目 01月21日（火）
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＜応用編＞
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10:00-10:40
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ウエラブル・デバイスの印刷形成と材料に求められる課題
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ＤＫＮリサーチ
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沼倉 研史氏
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10:40-11:20
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微細印刷のパターニング原理と応用プロセス
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産総研
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日下 靖之氏
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11:20-12:00
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二次電池、燃料電池の電極スラリーモデルのレオロジー昼休憩
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豊田中央研究所
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中村 浩 氏
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12:00-13:00
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昼休憩
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13:00-13:40
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クレースト:ソリューションキャスティングによる高付加価値製品開発
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産総研
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蛯名 武雄氏
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13:40-14:20
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セルロースナノファイバーの構造・基礎特性と塗布・乾燥分野への応用と課題
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東京大学
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磯貝 明氏
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14:20-15:00
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塗布乾燥シミュレーション
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アドバンストソフト
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富塚 孝之氏
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15:00-15:20
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総合質疑・休憩
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15:20-16:00
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ナノ粒子の表面設計による液中分散制御
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横浜国大
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飯島 志行氏
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16:00-16:40
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乾燥に伴う界面変形:液液および固液界面での物質移動
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東京農工大学
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稲澤 晋 氏
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16:40-17:00
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総合討論
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